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Product Center當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD半導(dǎo)體真空磁控濺射儀器
半導(dǎo)體真空磁控濺射儀器鄭州科探KT-Z1650PVD,能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊,全自動控制,設(shè)計符合人體工程學(xué),所得結(jié)果一致,可重復(fù)性高。
品牌 | 鄭科探 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,能源,電子,冶金,航天 |
鄭州科探儀器設(shè)備是高質(zhì)量定制物理 氣相沉積(PVD)系統(tǒng)的設(shè)計者和制造商,客戶服務(wù)和售后服務(wù)出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗。其研發(fā)團(tuán)隊在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下,高度積極地開發(fā)新設(shè)計以滿足客戶的特殊要求。
鄭科探的工程團(tuán)隊設(shè)計和制造的組件符合高質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。KT-Z1650PVD真空鍍膜機(jī)已通過分銷商銷往許多大學(xué)和研究中心,并得到了很好的參考和反饋。
儀器描述:
半導(dǎo)體真空磁控濺射儀器,能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑?span style="-webkit-tap-highlight-color: transparent; -webkit-appearance: none; margin: 0px;">Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊,全自動控制,設(shè)計符合人體工程學(xué),所得結(jié)果一致,可重復(fù)性高。
產(chǎn)品特點:
• 彩色觸摸屏:數(shù)據(jù)輸入簡單快速
• 通過觸摸屏中直觀檢測數(shù)據(jù)和曲線;歷史頁面可顯示歷史涂層信息。
• 可控鍍膜速率,可得到更精細(xì)的晶粒結(jié)構(gòu)
• 可手動或自動,根據(jù)時間或根據(jù)厚度進(jìn)行濺射
• 樣品臺更換簡單:標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)樣品臺或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺。標(biāo)準(zhǔn)樣品臺高度可調(diào)、可傾斜、可旋轉(zhuǎn);行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺為多孔樣品帶來好的噴金效果。
半導(dǎo)體真空磁控濺射儀器技術(shù)參數(shù);
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底) |
樣品臺轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |